招標(biāo)項(xiàng)目編號(hào)：****-****6HW****1
項(xiàng)目名稱：帶磁控沉積的離子束刻蝕機(jī)采購(gòu)
項(xiàng)目名稱(英文)：Ion beam etching system with Sputter Magnetron Source
招標(biāo)人：深圳國(guó)際量子研究院
招標(biāo)機(jī)構(gòu)：深圳市閃購(gòu)信息科技有限公司
招標(biāo)機(jī)構(gòu)代碼：****
招標(biāo)方式：公開(kāi)招標(biāo)
投標(biāo)報(bào)價(jià)方式：線下投標(biāo)
招標(biāo)結(jié)果：重新招標(biāo)